ВЛИЯНИЕ УСЛОВИЙ РЕАКТИВНОГО АНОДНОГО ИСПАРЕНИЯ ТИТАНА В ПАРАХ ГЕКСАМЕТИЛДИСИЛАЗАНА НА СКОРОСТЬ ФОРМИРОВАНИЯ И ТВЕРДОСТЬ TISICN ПОКРЫТИЙ

Аннотация

В работе представлены результаты исследования влияния условий синтеза нанокомпозитныхTiSiCN покрытий методом реактивного анодного испарения титана в парогазовой среде, содержащей пары гексаметилдисилазана, на скорость их формирования и микротвердость. Исследуемый метод получения покрытий, где в одной разрядной ячейке на основе самонакаливаемого полого катода осуществляется испарение титана и плазмохимическое разложениемолекул кремнийорганического прекурсора в реактивной газовой среде, является перспективным, поскольку обеспечивает генерацию потока паров металла без микрокапель, независимоеизменение в широких пределах таких условий синтеза, как состав и давление парогазовой смеси, потоки паров металла и прекурсора и степень их активации, плотность и энергию ионногопотока на поверхность формирующегося покрытия. Показано, что данный метод обеспечивает высокие (до 10 мкм/ч) скорости синтеза нанокомпозитных TiSiCN покрытий с твердостьюдо 38–40 ГПа. Увеличение потока паров металла, паров прекурсора и тока разряда приводитк монотонному росту скорости формирования покрытий. При этом микротвердость покрытийснижается с ростом тока разряда с 10 до 50 А и немонотонно зависит от потока паров гексаметилдисилазана в диапазоне 0–1,5 г/ч, что связано с изменением химического состава и содержанием нанокристаллической фазы в составе покрытий.