ПОВЫШЕНИЕ РАВНОМЕРНОСТИ ТОЛЩИНЫ ПОКРЫТИЯ TIN ИЗ ПЛАЗМЫ ВАКУУМНО-ДУГОВОГО РАЗРЯДА НА ИМИТАТОРЕ БЛИСКА
DOI:
https://doi.org/10.54708/26587572_2025_712053Ключевые слова:
Покрытия из плазмы вакуумно-дугового разряда, численные методыАннотация
При нанесении покрытия на сложнопрофильные изделия возникает неравномерность толщины покрытия, которая может превышать установленный конструкторской документациейдопуск. Одним из примеров таких случаев является блиск. Литературные данные свидетельствуют о неравномерности толщины на внутренних поверхностях до четырех раз в сравнениис внешними. В данной работе при помощи имитационной модели Монте-Карло равномерность толщины покрытия на имитаторе блиска из трех лопаток повышена с 0,5–9 мкм по базовой технологии до 2–8,5 мкм по оптимизированной. Измерения на образцах продемонстрировали при этом существенныйрост микротвердости покрытия в среднем на 30% с 920–1300до 1300–1900 HV0,05. Адгезионная прочность и шероховатость не претерпели существенныхизменений.Загрузки
Опубликован
2025-29-03
Как цитировать
Олейник, А. В. ., Николаев, А. А. ., Рамазанов, К. Н. ., Хусаинов, Ю. Г., & Назаров, А. Ю. . (2025). ПОВЫШЕНИЕ РАВНОМЕРНОСТИ ТОЛЩИНЫ ПОКРЫТИЯ TIN ИЗ ПЛАЗМЫ ВАКУУМНО-ДУГОВОГО РАЗРЯДА НА ИМИТАТОРЕ БЛИСКА. Materials. Technologies. Design, 7(1 (20), 53–65. https://doi.org/10.54708/26587572_2025_712053
Выпуск
Раздел
Статьи