Optimal control of electrolyticplasma polishing technological process using plant monitoring by impedance spectra

Abstract

Results  of  experimental  study  and  a  model  of  electrolyticplasma polishing process (EPP) as a  structure of  basic dynamic units with variable parameters are presented. A new process control  method  for  the EPP is proposed.  The method includes optimal voltage control program and  in?situ measurement of surface roughness and thickness  of the removed layer. Methods of impedance  spectroscopy,  linear mathematical programming and neural network  modeling have been applied. The block  diagram of the optimal  control  automated  system  and  the  prototypes   of hardware and software are  described.