Влияние напряжения смещения при плазменно-ассистированном ВЧ-распылении порошковой мишени AlMgB14
DOI:
https://doi.org/10.54708/26587572_2023_5414156Ключевые слова:
Плазма, ВЧ-разряд, диэлектрическое покрытие, смещениеАннотация
В данной работе приведены результаты исследования покрытий состава AlMgB14, полученных методом плазменно-ассистированного ВЧ-нанесения из порошковых материалов. Система состоит из мишени диаметром 200 мм с порошковым материалом, из которого наносятся покрытия, и генератора газовой плазмы «ПИНК». Система позволяет понизить давление нанесения покрытий, значительно повысить скорость нанесения покрытия и позволяет управлять свойствами наносимых покрытий за счет плазменного ассистирования в процессе осаждения. Исследования проводились на установке электронно-ионно-плазменного инжиниринга поверхности «КОМПЛЕКС», разработанной в лаборатории плазменной эмиссионной электроники ИСЭ СО РАН. Были исследованы покрытия состава AlMgB14, полученные методом плазменно-ассистированного ВЧ-нанесения в вакууме. Все данные были получены для пяти опытных образцов покрытий состава AlMgB14, одного опытного образца покрытия состава AlMgB14+30%TiB2 и одного опытного образца покрытия состава AlMgB14+70%TiB2.Загрузки
Опубликован
2023-12-12
Как цитировать
Ажажа, И. И. ., Шугуров, В. В. ., Петрикова, Е. А. ., & Ахмадеев, Ю. Х. . (2023). Влияние напряжения смещения при плазменно-ассистированном ВЧ-распылении порошковой мишени AlMgB14 . Materials. Technologies. Design, 5(4 (14), 156–164. https://doi.org/10.54708/26587572_2023_5414156
Выпуск
Раздел
Статьи