Влияние геометрического положения подложки на свойства хромовых покрытий, осажденных методом магнетронного распыления

Аннотация

При магнетронном напылении присутствует множество факторов, которые потенциально могут влиять на свойства покрытий. Относительное расположение подложки относительно мишени магнетрона определяет угол падения потока и скорость осаждения. Этот угол может меняться со временем в процессе осаждения. Важным вопросом, который необходимо решить, является то, как эти изменения, вызванные положением подложки, влияют на получаемые покрытия и их свойства. Для изучения этого вопроса была проведена серия экспериментов. В ходе эксперимента варьировались расстояние между подложкой и мишенью, угол падения и режимы вращения. Был проведен расчет и экспериментальное определение скоростей осаждения, а также рентгеноструктурный анализ полученных покрытий. Было показано, что снижение скорости осаждения приводит к образованию (200) и (211) Cr в покрытиях, тогда как высокоскоростные режимы осаждения показывают преобладание (100) Cr, что также может быть достигнуто за счёт осевого и планетарного вращения.